比2nm更先进！ TSMC A14流程暴露

根据Kuai Technology 4月29日，TSMC业务开发高级副总裁张Xiaoqiang表示，TSMC A14流程不使用高EUV技术。据报道，TSMC A14的过程无法识别高EUV光刻技术，并且仍然主张使用原始EUV光刻设备。 TSMC认为，尽管没有高光刻的设备，但A14过程仍然可以实现性能，密度，产量和其他目的。根据数据，A14是下一代TSMC技术过程，TSMC为1.4nm级别的半导体工程，其性能大大超过了当前的3NM商业流程及其即将到来的2NM商业流程。 TSMC发布的数据表明，与N2（2NM）过程相比，A14在相同尚近消耗的情况下达到了高达15％的速度，或以相同的速度降低了30％的速度，而MOR的逻辑密度则增加E超过20％。根据TSMC的计划，A14计划在2028年工作。除了A14，TSMC还计划了各种衍生版本，例如A14P，A14X和A14C。 [本文的结尾]如果您需要重新打印，请确保指示来源：Kuai技术编辑：Zhenting